FTS Corporation
株式会社 エフ・ティ・エスコーポレーション
工業用素材,環境関連
- 代表取締役 門倉 貞夫
- 〒 194-0024 東京都八王子市宇津木町940-165
- TEL ： 042-645-8224
- E-mail ： skadokura@ftsc.co.jp URL ： http://www.ftsc.co.jp
【事業内容】
環境、エネルギー、情報分野のインフラであるスパッタ薄膜作成技術の高度化と深化に努め、
①従来技術で突破出来ない品質、生産性についてNFTS装置を使用（成膜テスト）して顧客との連携による新技術の提案
②共同で最適なNFTS装置の設計製作販売
をアウトソーシングで実施しています。
【主な製品・技術・サービス】
従来のスパッタ（蒸着、レーザー等）技術ではプラズマが堆積表面に照射するため品質と生産性を両立させることが出来ない薄膜の必要性が先端機能性材料分野で顕在化しています。
NFTSプラズマ源は超小型のサイズから１ｍ以上の大型サイズまでプラズマ空間と基板とを空間的に分離できる原理と構造に特長があります。
プラズマ空間ではスパッタされた粒子、スパッタに使われる高いエネルギーの粒子（Ａｒ等）やターゲットから飛散する電子や酸素、窒素イオンが互いにターゲット面と外側周囲空間に設けた磁力線のバリアでダイナミックに飛散しながら混じり合い質量のあるスパッタ粒子は運動エネルギーを保った状態で堆積表面に到達し拡散固化できます。酸素、窒素イオン等が必須なターゲットや強磁性材料でも優れた品質と生産性を実現できるNFTSプラズマ源とその応用に特化した製品、技術、サービスをしています。
プラズマ源の原理図及び超小型プラズマ源の例を示します。NFTSプラズマ源ではターゲットの間隔を狭めることであたかも蒸着源のような斜方粒子成長を緻密な島状構造で実現が期待されます。
【コメント・特記事項】
① NFTSプラズマ源関連の特許は国内外10件以上
・会社創立以前に帝人株式会社で研究開発してきたNFTSプラズマ源主要特許を譲渡
② 大型プラズマ源の開発及びその効果特長を証明するために、新透明断熱フィルムの開発を下記助成を受けて実施しています。
・平成12年：東京都創造的技術開発助成
・平成12-14年：SBIR R/D(中小企業事業団)
・平成17-18年：NEDO助成「新対向ターゲット式スパッタによる透明断熱フィルムの実用開発の推進」
